1、設備名稱和型號
1.1設備名稱：晶片研磨后清洗機
1.2設備型號：NXXD-4SH-06A
2、設備用途：
用於清洗去除研磨后晶片表面上的金剛砂，AL2O3，SIC，金屬離子（NA+，SI+，K+，AL3+）等。
3、設備能力和清洗硅片尺寸
3.1 晶片尺寸：3″、4″圓片及20×30方片
3.2 處理3″、4″晶片數：50片/2花籃（PFA花籃），一批
3.3處理20×30方片數：100片/4花籃（PFA花籃），一批
3.4 處理頻率：1批10分鐘(標準)
4、設備各部分主要技術參數
4.1整機
² 尺寸(參考)：2000mm(L)×1200mm(W)×1800mm(H)；
² 主要材料：優質磁白10mmPP板，優質不鏽鋼骨架；
² 台面板為10mm洞洞板;
² DIW管路及構件採用國產優質PP管材，需滿足10--15MW去離子水水質要求；
² 碱管路採用PFA管；
² 附件：1把水槍，1把 ；
² 設備頂部裝有照明燈；
4.2純水（DIW）快排槽（1、3、5#）
² 數 量 3套；
² 內槽尺寸 370（長）×280mm（寬）×230mm（高）
² 槽體容量 22升
² 工作溫度 室溫
² 槽體材料 N PP材料熱彎/焊接組合加工而成，配蓋
² 清洗方式 上噴淋，下注水
² 注入時間 0-9999秒，可設置
² 快排參數 0-9999秒，可設置，1-99次
² 排液方式 重力排液，排液時間 < 5秒鐘
4.3 NaOH藥液清洗槽（2、4#）
² 數 量 2套；
² 內槽尺寸 370（長）×280mm（寬）×300mm（高）
² 槽體容量 26升
² 工作溫度 室溫----50℃，可設置，精度±2℃
² 槽體材料 PVDF或SUS316熱彎/焊接組合加工而成
² 超聲系統 功率2KW，頻率40KHz
² 排液方式 重力排液
² 加熱方式 內置式加熱管，配溫度傳感器和液位傳感器。槽內有N2鼓泡功能，使
槽內液體溫度加熱均勻，加熱器功率為2.0KW
4.4 溢流槽（6#）
² 數 量 1套；
² 內槽尺寸 370（長）×280mm（寬）×230mm（高）
² 槽體容量 22升
² 工作溫度 室溫
² 槽體材料 NPP材料熱彎/焊接組合加工而成
² 清洗方式 下注水+氮氣股泡
² 注入時間 0-9999秒，可設置
² 排液方式 重力排液，排液時間 < 5秒鐘
² 槽體設有掏渣口,槽體底部設有NPP材質3--4￠洞洞過濾板,防止碎硅料堵塞管路;
² 配手動透明PVC材質蓋，防止停機時污染；
