1、设备名称和型号
1.1设备名称：晶片研磨后清洗机
1.2设备型号：NXXD-4SH-06A
2、设备用途：
用于清洗去除研磨后晶片表面上的金刚砂，AL2O3，SIC，金属离子（NA+，SI+，K+，AL3+）等。
3、设备能力和清洗硅片尺寸
3.1 晶片尺寸：3″、4″圆片及20×30方片
3.2 处理3″、4″晶片数：50片/2花篮（PFA花篮），一批
3.3处理20×30方片数：100片/4花篮（PFA花篮），一批
3.4 处理频率：1批10分钟(标准)
4、设备各部分主要技术参数
4.1整机
² 尺寸(参考)：2000mm(L)×1200mm(W)×1800mm(H)；
² 主要材料：优质磁白10mmPP板，优质不锈钢骨架；
² 台面板为10mm洞洞板;
² DIW管路及构件采用国产优质PP管材，需满足10--15MW去离子水水质要求；
² 碱管路采用PFA管；
² 附件：1把水枪，1把 ；
² 设备顶部装有照明灯；
4.2纯水（DIW）快排槽（1、3、5#）
² 数 量 3套；
² 内槽尺寸 370（长）×280mm（宽）×230mm（高）
² 槽体容量 22升
² 工作温度 室温
² 槽体材料 N PP材料热弯/焊接组合加工而成，配盖
² 清洗方式 上喷淋，下注水
² 注入时间 0-9999秒，可设置
² 快排参数 0-9999秒，可设置，1-99次
² 排液方式 重力排液，排液时间 < 5秒钟
4.3 NaOH药液清洗槽（2、4#）
² 数 量 2套；
² 内槽尺寸 370（长）×280mm（宽）×300mm（高）
² 槽体容量 26升
² 工作温度 室温----50℃，可设置，精度±2℃
² 槽体材料 PVDF或SUS316热弯/焊接组合加工而成
² 超声系统 功率2KW，频率40KHz
² 排液方式 重力排液
² 加热方式 内置式加热管，配温度传感器和液位传感器。槽内有N2鼓泡功能，使
槽内液体温度加热均匀，加热器功率为2.0KW
4.4 溢流槽（6#）
² 数 量 1套；
² 内槽尺寸 370（长）×280mm（宽）×230mm（高）
² 槽体容量 22升
² 工作温度 室温
² 槽体材料 NPP材料热弯/焊接组合加工而成
² 清洗方式 下注水+氮气股泡
² 注入时间 0-9999秒，可设置
² 排液方式 重力排液，排液时间 < 5秒钟
² 槽体设有掏渣口,槽体底部设有NPP材质3--4￠洞洞过滤板,防止碎硅料堵塞管路;
² 配手动透明PVC材质盖，防止停机时污染；
